不过光刻机这玩意，高振东现在根本就不去想什么紫外、极紫外光刻，浸润光刻，多次曝光这些鸟玩意，整个技术环境根本支撑不了的。

他要搞的，就是用自己亲手做出来的现成的东西——激光光刻，同时光刻制程，他根本就不去想多少纳米，连微米级别都嫌高。

对他来说，甚至只要亚毫米级别的就好，也就是100微米到10微米这个级别，能在1平方厘米的面积上，放下十来个乃至几十个晶体管就行。

可别小看这个密度，已经能做很多事情了，尤其是对于DJS-60D乃至他规划中的二代高性能计算机来说。

而且搞数字电路的都知道，有了合适的数字电路芯片，哪怕没有计算机，也能玩儿出很多花活，用简单的代价，实现很多控制需求了。

对于这个制程精度，随便什么激光，其波长都是足够小了，功率也比较容易实现。

至于极紫外光刻机，那是由于光刻制程小到一定程度的需求，而且功率很难做大，这时候想那玩意完全是做梦呢。

至于亚毫米精度的光刻能不能实现，高振东还是有一定信心的，大不了请相关单位手搓几套光路系统，光源自己上就行，他可不只会红宝石激光器。

作为前世的资深军迷，他心里门儿清，东北光学所可不是吃干饭的，那是相当牛逼的一个存在。

而且原本来说，国内的集成电路其实起步并不晚，与普通人直觉反应相悖的是，我们的第一块集成电路，诞生于1965年，实用化的半自动接近式光刻机，诞生于1977年，这是一台分辨率可达2.5~5微米的光刻机，而仿制成功8080CPU，是在1979年，比汉斯猫还早一年。

总体来说，其技术水平，大概在距离最先进的4~7年的样子，至于后来几十年怎么又混成了那个鸟样，就不得而知了。

反正总之就是，要搞集成电路，国内这个时候的条件还是基本成熟的。

高振东很快就定下了第一个目标，亚毫米级的接近式光刻机，不过具体的搞法，还是要自己仔细考虑考虑。

而且集成电路可不只光刻这一点内容，还有好多呢，好在其中大部分，可以在规划好之后，交给1274厂去搞，这个他们还是有经验和能力的，唯一麻烦的就是光刻机这个事情。

亚毫米级别的精度，决定了总体来说这个事儿能办得不错，要是想一步登天搞个拿纳米来计数的，那就得等猴年马月了。

他和吕厂长、鲁总工深入交流了一番之后，道：“吕厂长，鲁总工，这样，我好好消化一下这些材料，然后再拿出一份具体的计划来。”

两人也知道这一步是省不了的，也没什么异议，和高振东约好下一步工作的时间之后，留下材料离开了三轧厂。

回到家的高振东，吃完饭继续在纸上写写画画，就是在考虑这个问题，这个年头的半导体工艺虽然没有日后的复杂，但是要考虑的事情还是不少的。

娄晓娥看见他忙，也不吱声，她的考试也快要到了，她也忙着呢。